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キヤノン、開発中の望遠レンズ2製品を米国の展示会に参考出展

[製品情報 : レンズ]

2007.10.16(Tue) 14:36:15

【キヤノン】
キヤノンは、開発中の望遠レンズ「EF200mm F2L IS USM」と「EF800mm F5.6L IS USM」を、米国で開催される展示会「PhotoPlus」に参考出展します。

「PhotoPlus」は、2007年10月18日から10月20日まで、ニューヨークで開催。

今回参考出展される両レンズは、いずれも高性能な手ブレ補正機構を搭載する L(Luxury)レンズとして開発。蛍石などの特殊光学材料により、諸収差を良好に補正し、高い解像度とコントラストの両立の実現を狙っているとしています。

画像(180x135)・拡大画像(640x480)

EF200mm F2L IS USM

画像(180x97)・拡大画像(640x346)

EF800mm F5.6L IS USM



EF 200mm F2 L USM は、開放絞り値 F2 の大口径望遠レンズ。ポートレートや室内スポーツ撮影などで、より明るいレンズを望むユーザー向けに開発。

EF 800mm F5.6 L IS USM は、現行製品の「EF 600mm F4 L IS USM」を超える超望遠域に対応するレンズ。スポーツや報道などの分野から寄せられた、より長い焦点距離の高性能レンズを望む声に応えるため、開発されています。


Posted by Toshi この記事のURL  at 14:36

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